真空蒸鍍?cè)硎鞘裁矗?/h1>

發(fā)布時(shí)間：2024-05-30 18:03:00  瀏覽次數(shù)：179

真空蒸鍍?cè)O(shè)備主要由真空室和抽真空系統(tǒng)組成，真空室內(nèi)有蒸發(fā)源（即蒸發(fā)加熱器）、基片及基片架、基片加熱器、排氣系統(tǒng)等。將鍍膜材料置于真空室內(nèi)的蒸發(fā)源中，在高真空條件下，通過(guò)蒸發(fā)源加熱使其蒸發(fā)，當(dāng)蒸氣分子的平均自由程大于真空室的線性尺寸以后，膜材蒸氣的原子和分子從蒸發(fā)源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的碰撞與阻礙，可直接到達(dá)被鍍的基片表面上，由于基片溫度低，膜材蒸氣粒子凝結(jié)其上而成膜。

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