真空鍍膜機又稱薄膜沉積機，是一種用于在基底表面涂上一層薄而均勻的涂層的設(shè)備。該工藝在真空室中進行，以創(chuàng)造一個亞大氣壓環(huán)境。

真空鍍膜工藝采用物理或化學氣相沉積技術(shù)。物理氣相沉積（PVD）是一種涂層材料從凝結(jié)相到氣相再回到凝結(jié)相以形成薄膜的相變方法。最常見的 PVD 工藝包括濺射沉積和真空蒸發(fā)。

真空鍍膜機由幾個基本組件組成：

1.真空室和鍍膜設(shè)備：真空室通常由不銹鋼制成，可承受真空環(huán)境。它配有法蘭接口，是進行鍍膜工藝的地方。

2.真空獲取部件：這部分負責在真空室中創(chuàng)造和維持真空。它涉及使用各種泵，如機械泵、羅茨泵和分子泵系統(tǒng)，以達到所需的真空度。

3.真空測量部分：這部分包括不同類型的真空計，用于測量真空室內(nèi)的壓力。不同的原理和要求決定了各種真空計的使用，如熱電偶、電離計和皮拉尼真空計。

4.電源部分：電源部件為鍍膜過程提供必要的電能。真空鍍膜機中常用的目標電源包括直流電源、射頻電源、脈沖電源和中頻電源。

5.工藝氣體輸入系統(tǒng)：氬氣、氪氣、氮氣、乙炔、甲烷、氫氣和氧氣等工藝氣體通過包括氣瓶、減壓閥、流量計和電磁閥在內(nèi)的系統(tǒng)輸入真空室。該系統(tǒng)可在鍍膜過程中精確控制氣體流量。

6.機械傳動部分：為確保涂層厚度均勻，基體和涂層材料必須在涂層過程中進行多次旋轉(zhuǎn)。這部分包括工件臺、軸承臺和工件本身的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)。

7.加熱和溫度測量：加熱元件用于加熱基體或涂層材料，以達到所需的溫度。熱電偶用于測量和控制涂層過程中的溫度。

8.離子蒸發(fā)和濺射源：這些源用于生成蒸發(fā)或濺射形式的涂層材料。多弧電鍍通常使用圓形或矩形靶，而磁控濺射則使用矩形或圓柱形濺射陰極。

9.水冷系統(tǒng)：為防止部件過熱，真空鍍膜機中安裝了水冷系統(tǒng)。該系統(tǒng)通常包括冷水塔、冰水機和水泵。

真空鍍膜機廣泛應(yīng)用于各行各業(yè)，包括餐具、家居用品、建筑材料、電子產(chǎn)品和包裝。它們通過提高產(chǎn)品的性能和外觀，為產(chǎn)品提供功能和美觀方面的優(yōu)勢。真空鍍膜機具有吞吐率高、成本效益高、無溶劑工藝效率高和可靠性高等特點。真空鍍膜機還可以進行定制，以適應(yīng)不同尺寸和形狀的基材。